離子濺射儀是一種重要的物理氣相沉積（PVD）設備，廣泛應用于材料科學、半導體制造、光電器件、樣品制備等多個領域。桌面型小型離子濺射儀因其小巧的體積、靈活的功能和相對低廉的成本，被越來越多的研究機構和企業所青睞。離子濺射是通過將高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子獲得足夠的能量，從而以原子的形式被濺射出來，并最終沉積在所需的基材表面。
1.真空腔體：提供無污染的真空環境，以消除氣體分子的干擾，保證離子濺射過程的高效進行。
2.靶材架：用于固定靶材并保持其穩定，靶材可根據實驗需求進行更換，一般使用金屬、合金或陶瓷材料制成。
3.離子源：用于產生離子，常用的離子源有射頻離子源和直流離子源，能夠根據實驗需求調節離子能量。
4.基底：用于固定基底，且能夠調節基底與靶材之間的距離和角度，以影響薄膜的沉積特性。
5.真空泵系統：用于抽走腔體內部的氣體，以達到所需的真空度，確保離子濺射過程的順利進行。
6.控制系統：包括數字控制器和軟件界面，用于實時監測和調整濺射參數，保證實驗的可重復性和準確性。
7.監測系統：如晶體厚度監測器和光學監測器，能夠實時檢測薄膜生長狀態，為實驗數據分析提供支持。
桌面型小型離子濺射儀的應用領域：
1.材料研究：主要用于薄膜材料的制備與特性研究，如金屬、陶瓷、聚合物和復合材料等的表面改性。
2.半導體器件：在半導體制造過程中，用于鍍覆金屬層、形成絕緣層和源極/漏極等功能薄膜的沉積。
3.光電器件：應用于太陽能電池、LED和光學薄膜的制造，滿足光學和電學性能的要求。
4.表面工程：表面涂層技術，如抗腐蝕、耐磨損和絕緣涂層等，以提升材料的使用壽命和性能。
5.實驗室教育：在高校和研究機構中，作為教學和科研設備，幫助學生和研究人員深入了解薄膜生長和材料科學的基本原理。
您的位置：
在線交流
咨詢電話